比利時(shí)微電子研究中心（IMEC）是世界上納米微電子和納米技術(shù)領(lǐng)先研究單位之一,其研究方向集中在下一代芯片、系統(tǒng)和智能環(huán)境技術(shù)上。在半導(dǎo)體技術(shù)方面，IMEC擁有先進(jìn)CMOS技術(shù)、 III-V和有機(jī)半導(dǎo)體平臺(tái)。根據(jù)IMEC所確定的發(fā)展戰(zhàn)略,2003-2005年研發(fā)45納米CMOS技術(shù),2005-2007年研發(fā)32納米微電子技術(shù)。IMEC的納米研究包括納米CMOS和納米電子新裝置、從微電子機(jī)械系統(tǒng)向納米電子機(jī)械系統(tǒng)過(guò)渡、開發(fā)納米材料和納米成型技術(shù)、使用和改善納米掃描探頭、界面功能確定、自行組裝、分子內(nèi)部連接和分子電子、研究生物標(biāo)本與固體裝置之間界面的化學(xué)和電子特性、自裝分子層信號(hào)傳輸?shù)取Ｄ壳癐MEC正在研究把電子旋轉(zhuǎn)技術(shù)與硅電子結(jié)合起來(lái)。
　　
　　193納米浸入光刻技術(shù)是實(shí)現(xiàn)45納米以下COMS關(guān)鍵技術(shù)。浸入光刻是指在曝光鏡頭和硅片之間充滿水而不是空氣。對(duì)于193納米光刻來(lái)說(shuō),水是最佳液體。但浸入光刻技術(shù)仍有很多不確定性,如對(duì)置于水中的硅片和光刻性能帶來(lái)的影響,磨料中水吸附如何進(jìn)行CD控制、模樣外形控制等。
　　
　　在半導(dǎo)體工業(yè)中使用浸入光刻技術(shù)已引起廣泛注意,人們預(yù)測(cè)193納米浸入光刻技術(shù)將取代157納米光刻技術(shù)成為45納米以下半導(dǎo)體生產(chǎn)新一代光刻技術(shù)。從1998年開始，IMEC與日本東京電子有限公司（TEL）合作開發(fā)193納米光刻技術(shù)。
　　
　　IMEC為加速45納米以下微電子技術(shù)的開發(fā), 與世界10大設(shè)備供應(yīng)商確定協(xié)議，協(xié)議的簽署使得IMEC能在最先進(jìn)的設(shè)備條件下進(jìn)行研究與開發(fā)。在193納米浸入光刻技術(shù)方面,IMEC與世界上30個(gè)芯片制造商、工具供應(yīng)商和軟件供應(yīng)商等組成合了作聯(lián)盟。該聯(lián)盟中IMEC的合作伙伴ASML公司的 TWINSCANtm XT:1250i是目前世界上浸入工具(0.85)含量最高裝置。IMEC 將使用該工具進(jìn)行曝光, 印刷新密度為7ONM,聚焦深度為0.7μM。雙方希望通過(guò)合作加速光刻技術(shù)從干法向濕法的過(guò)渡,早日實(shí)現(xiàn)193浸入光刻技術(shù)的工業(yè)化應(yīng)用。