PVA TePla AG 宣布推出用于制造碳化硅晶體的高溫系統(tǒng) SICube
關(guān)鍵詞 碳化硅 , 高溫系統(tǒng)|2012-10-22 11:15:28|來源 PV News
摘要 硅晶化系統(tǒng)以及真空和高溫系統(tǒng)制造商PVATePlaAG宣布推出用于制造碳化硅(SiC)晶體的高溫系統(tǒng)SICube。SiCube中所生產(chǎn)的晶體主要面向高科技市場中的客戶。典型的應(yīng)用領(lǐng)...
硅晶化系統(tǒng)以及真空和高溫系統(tǒng)制造商 PVA TePla AG 宣布推出用于制造碳化硅 (SiC) 晶體的高溫系統(tǒng) SICube。SiCube 中所生產(chǎn)的晶體主要面向高科技市場中的客戶。典型的應(yīng)用領(lǐng)域包括高性能的電子產(chǎn)品(例如混合動力及電動汽車、空調(diào)系統(tǒng)和光伏)和光電產(chǎn)品,碳化硅的一些特定屬性(如高導(dǎo)熱性)可為這些產(chǎn)品增色不少。
PVA TePla 提供兩種不同的系統(tǒng):HTCVD(高溫化學(xué)氣相蒸鍍)和 HTCVT(高溫化學(xué)氣相輸運)。這兩種系統(tǒng)都可生成直徑長達(dá) 6 英寸(150 毫米)的晶體。迄今為止,歐洲和亞洲兩家大型制造商都已選擇采用此系統(tǒng)。SICube 是一種緊湊型晶體生長系統(tǒng)。該系統(tǒng)擁有直觀的用戶界面和極高的工藝精度,采用高品質(zhì)的材料和成分,可為客戶帶來眾多益處。
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