一、產(chǎn)品概述

爆轟納米金剛石微粉（簡稱NND，又稱超細(xì)金剛石UFD）是一種通過負(fù)氧炸藥爆轟技術(shù)制備的新型納米級金剛石材料。其核心原理是利用炸藥爆轟過程中產(chǎn)生的高壓、高溫環(huán)境，促使游離碳快速

轉(zhuǎn)化為納米級金剛石顆粒。與穿統(tǒng)靜壓合成金剛石（棱角分明、易解理）不同，爆轟納米金剛石呈現(xiàn)獨特的球形結(jié)構(gòu)，無銳邊，單晶粒粒徑僅4-7nm，是目前已知粒度最細(xì)的金剛石微粉之一。

二、核心制備工藝

爆轟納米金剛石的制備依托負(fù)氧炸藥爆轟技術(shù)：

在密閉容器中，通過特定配比的負(fù)氧炸藥（氧平衡為負(fù)，確保爆炸后產(chǎn)生游離碳）引爆，瞬間產(chǎn)生約30-50GPa的高壓和3000-5000℃的高溫環(huán)境。在此極端條件下，游離碳快速發(fā)生相變，形成納

米級金剛石顆粒。該工藝突破了

傳統(tǒng)靜壓合成（需超高壓設(shè)備）的局限性，實現(xiàn)了低成本、大規(guī)模制備納米級金剛石的技術(shù)創(chuàng)新。

三、核心性能優(yōu)勢

1. 超小粒徑與球形結(jié)構(gòu)，突破傳統(tǒng)金剛石局限

爆轟納米金剛石單晶粒僅4-7nm，遠(yuǎn)小于常規(guī)金剛石微粉（微米級），且呈規(guī)則球形、無銳邊。這一特性使其在應(yīng)用中避免了傳統(tǒng)棱角狀金剛石因易解理、劃傷工件的缺陷，尤其適用于對表面精

度要求極高的超精密加工場景。

2. 超大比表面積，賦能多場景活性需求

產(chǎn)品顆粒度極小，比表面積高達(dá)300-420㎡/g（約為常規(guī)微米級金剛石的10-20倍）。超大的比表面積意味著更多的表面活性位點，在催化載體、吸附材料、復(fù)合材料增強相等領(lǐng)域具有顯著優(yōu)勢：

作為催化劑載體時，可負(fù)載更多活性組分，提升催化效率；

用于吸附材料時，能高效捕獲小分子污染物或特定離子；

與樹脂/金屬復(fù)合時，可增強界面結(jié)合力，提升復(fù)合材料綜合性能。

3. 優(yōu)異分散性，保障體系穩(wěn)定性

納米級粒徑配合球形結(jié)構(gòu)，使爆轟納米金剛石在水、有機溶劑等分散介質(zhì)中表現(xiàn)出極佳的分散性與懸浮性：

分散后體系長期靜置不易沉淀，避免了傳統(tǒng)微粉因團(tuán)聚導(dǎo)致的性能衰減；

可均勻分布于潤滑劑、涂料、拋光液等體系中，確保功能成分的持續(xù)穩(wěn)定釋放；

尤其適用于對均勻性要求高的納米流體、高端潤滑添加劑等領(lǐng)域。

4. 超精密拋光能力，突破表面粗糙度極限

爆轟納米金剛石憑借超小粒徑與球形結(jié)構(gòu)，在超精細(xì)拋光領(lǐng)域展現(xiàn)出不可替代的優(yōu)勢：

可實現(xiàn)“無損傷拋光”，避免傳統(tǒng)棱角狀磨料對工件表面的劃傷；

拋光后工件表面粗糙度低至0.2nm以下（接近原子級光滑），遠(yuǎn)超常規(guī)金剛石微粉的拋光精度；

廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體芯片（如硅片、GaN襯底）、光學(xué)晶體（如藍(lán)寶石、激光晶體）、精密陶瓷及高端金屬器件的超精密加工。

四、典型應(yīng)用場景

超精密拋光領(lǐng)域：半導(dǎo)體芯片、光學(xué)鏡頭、精密陶瓷的原子級表面拋光；

復(fù)合材料增強：高性能樹脂基/金屬基復(fù)合材料（如散熱片、耐磨涂層）的增強相；

催化與吸附：高效催化劑載體、環(huán)境治理吸附材料；

高端潤滑添加劑：納米潤滑油脂、減摩抗磨涂層的核心功能成分；

生物醫(yī)學(xué)領(lǐng)域（延伸潛力）：靶向藥物載體、生物傳感器的納米功能材料（需進(jìn)一步表面修飾）。

產(chǎn)品參數(shù)

• 基本參數(shù)

  型號（Model）	NND-5	NND-10	NND-50	NND-100	NND-200	NND-500	NND-700	雜質(zhì)含量
  粒度（Grit）	5nm	10nm	50nm	100nm	200nm	500nm	700nm	≤2%